主要功能：
样品表面图形化（光刻胶），可正、背面对
准曝光
技术指标：
样品尺寸： 2"、3"、4"、6"及不规则小片
恒定光强： 19.5 mw/cm2@365 nm,
　　　　　16.5 mw/cm2@405 nm
曝光模式： 真空，硬接触，软接触，近邻
最小线宽： 0.8μm（真空模式）
对准精度： TSA 0.5 μm，BSA 1.0μm
均匀性： 2%　over　6"　diameter

免审核工艺：

1.基本要求：

兼容洁净室环境；禁止以下任何样品：含有粉尘、挥发性物质、腐蚀性化学品、生物活性、油污性。

2.样品要求

样品尺寸小于等于6寸，厚度小于8mm；掩模板7寸及以下。

3.允许的标准工艺操作（仅限于）：

(1)取放符合上述要求的样品

(2)简单的单次曝光或套刻，最小线宽在2um以上