详细介绍：

学习工作经历：

2005.9~2009.6 安徽理工大学 本科 应用化学；

2009.9~2012.5 合肥工业大学 研究生 材料学

2012.6~2015.5 杭州士兰集成电路有限责任公司 工艺工程师

2016.4至今  微纳研究与制造中心 工程师

技术专长：

  擅长紫外光刻、激光直写、电子束光刻、纳米压印等光刻技术

技术成果：

支撑用户成果：

1．On-demand Integrated Quantum Memory for Polarization Qubits　PHYSICAL REVIEW LETTERS　 128/18　180501　2022.05　6/10　其它；

2．Protocol for fabricating a photonic structure consisting of ZnO/Ag/ZnO film   perforated with 2D periodic apertures based on photolithography technology　STAR Protocols 　3/2　101242　2022.07　6/8　其它；

3．Near-Field Thermal Radiation between Two Plates with Sub-10 nm　NANO LETTERS　20/8　6091-6096　2020.08　8/9　其它.

获奖情况:

1.高精度电子束光刻机进步机组　省、部委级　2022.04　中国科学院;

2.等离子体去胶机良好机组　省、部委级　2021.04　中国科学院.